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脉冲等离子PulsPlasma®系统包括真空炉室，辅助加热系统，保温系统，温度测量系统，炉室开关系统，工艺气体循环系统，冷却系统，工艺控制系统以及离子发生器系统。这其中的离子发生器系统是普发拓普公司的设计，可以完全避免打弧现象的发生而且节能效果明显。炉体卧式设计，适合处理大型零件的处理。根据设备的大小，加热控制区至少配有三组独立控制升温和降温的加热器，通过这些独立控制的加热器获得较好的均温性。
大型卧式离子氮化炉工艺特点：
通过热壁技术实现良好的均温性
能源有效利用，工艺气体消耗少，无污染气体
灵活的渗氮温度，温度范围 300 ℃ - 600 ℃
白亮层可控
可处理不锈钢
可处理烧结钢
可处理钛合金
可处理高合金钢
大型卧式离子氮化炉特点：
不产生打弧，工件表面无破坏
全自动工艺控制，工件内部测温
台车式装载系统，多达40吨的装载量
加热和控制系统，至少3区独立的加热和冷却区域
控制区温度均匀分布
PulsPlasma®电源，电压和电流近乎方波，几微妙内获得
设定的全部脉冲电流，主动抑制打弧监测（开关时间< 0.1 µs）
电源可升级至5年质保
可在低温下对工件表面进行等离子清洗
航天保温材料，热容量低，功率损耗低，节省重量.
大型卧式离子氮化炉主要技术参数
大型卧式离子氮化炉主要技术参数