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武汉安德始终坚持向用户提供好的适用的设备，安德的离子渗氮设备涉及直流、脉冲、直流及脉冲两用及带辅助加热型,带电脑全自动控制设备，为用户提供多种选择;安德以诚挚对待用户，以用户满意求得心安。
离子渗氮包括离子渗氮﹑离子氮碳共渗(软氮化)，可以显著提高钢铁零件表面硬度;显著提高耐磨损﹑耐疲劳及耐腐蚀等性能;离子渗氮工艺由于其节能﹑省气﹑效率高﹑质量好等优点，在动力﹑机床﹑石化机械、轻纺机械、模具等行业中得到了广泛应用。
安德设备
1. LD直流离子渗氮设备
直流为传统离子渗氮设备，适用于大部分工件;由于其在工艺上的特点，在脉冲设备流行的今天，直流依然被广泛使用。
2. LDMC脉冲离子渗氮设备
脉冲打弧迅速，渗速较快，工作气压可调幅度大，较直流节能大致在2/10-3/10，适用于表面要求高、孔槽多而复杂的工件;为现在常用的离子渗氮设备。
3. ZM直流脉冲两用渗氮设备
兼顾直流、脉冲各自特点的渗氮设备。
4. LDF、LDMCF、ZMF辅助加热离子渗氮设备
辅助加热离子渗氮设备，是在直流、脉冲或直流脉冲两用设备中增加电阻辅助加热，其操作简单可靠，适用于大部分工件，尤其适用于轻薄零件。
5. LDZD、LDMCZD、ZMZD全自动离子渗氮设备
全自动离子渗氮设备，是在直流、脉冲或直流脉冲两用设备中增加电脑全自动控制，其操作全部由电脑完成，控温控压准确,全过程监控记录，适用于大批量,重复生产零件。
6. 离子渗碳设备
离子渗碳具有渗速快(0.8mm/2小时)，渗层质量好的特点，为新型渗碳设备。
7. 离子渗碳淬火设备
具备离子渗碳及真空淬火功能。
安德设备特点：
安德在离子氮化设备及工艺方面积累了大量的经验，注重于设备的可靠性，稳定性和先进性。设备主要有以下技术特点：
1.真空炉体制造增加时效工序，长期保证真空密封要求。
2.保护截止电路特殊设计，即使阴阳极短路，也不损坏设备和炉内零件。
3.电源的电力电子元件采用进口模块，线路简单规范，质量可靠。
4.操作按钮互相设有保护，即使操作失误，也不会损坏设备。
5.动作控制采用固化电路，大大提高可靠性。
6.稳定完善的自动控制系统,保证工艺的重复性及零件的合格率。
