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高真空管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合
设备名称 |
高真空管式炉(开启式、智能型) |
型 号 |
TF1000-100-HV-T10 |
控制中枢 |
10英寸液晶触摸屏 |
电源电压 |
AC 220V,50/60Hz |
外形尺寸(宽*深*高) |
1850*550*1270mm |
设备重量 |
330Kg(以实际为准) |
设备总功率 |
5.8Kw |
加热功率 |
4.8Kw |
加 热 区 |
400mm |
恒 温 区 |
200mm(±1.5℃) |
加热区数 |
单温区 |
极限温度 |
1000℃ |
使用温度 |
≤1100℃(大气或惰性气氛下),≤1000℃(高真空条件下) |
升温速率 |
300℃以内≤3-8℃/min,300℃以上≤8-12℃/min |
降温速率 |
700℃以上≤10℃/min |
测温传感器 |
欧米伽热电偶 OMEGA N型 |
加热元件 |
红外加热管,控温精确,可实现快速升温 |
炉 膛 |
氧化铝多晶纤维炉膛(1500型) |
控温仪表 |
30段可编程控制,控温精度±1℃ |
极限真空度 |
1.33*10-4Pa(空炉冷态) |
真空机组功率 |
1Kw |
复合分子泵 |
JTFB-600 |
旋片机械泵 |
VRD-10 |
炉管及尺寸 |
石英管 100*900mm |