首页 > 产品中心 > 热处理 > 热处理设备 > 化学热处理炉 > 普发拓普真空设备(北京)有限公司 > 离子氮化炉
点击下图片即可查看大图

离子氮化炉
关于离子氮化炉信息的二维码

手机扫描查看

  • 面议
  • 起订量:1 台
  • 可售数量: 100 台
  • 支持批量采购
  • 发布时间:2022-02-11 22:11

产地:北京 | 归属行业:化学热处理炉

品牌:普发拓普公司

有效期至:长期有效

联系人: 市场部 (女士) 

电话:

联系地址:北京市经济技术开发区景园街10号大琛科技园B幢一楼

商铺网址: http://www.hotwork-china.com/index.php?homepage=pvatepla

已有17人关注  
分享:
  • 产品详情
  • 联系方式
  • 产品评价
  • 供货总量:100 台
  • 发货期限:自买家付款之日起 3 天内发货
  • 所在地:北京

 
      离子氮化炉根据不同的工艺要求,最高工艺温度可以设计到900度。炉体可以是钟罩式设计,也可以是井式炉或卧式设计。根据设备的大小,加热控制区至少配有三组独立控制升温和降温的加热器,通过这些独立控制的加热器获得较好的均温性。
      离子氮化炉包括真空炉室,辅助加热系统,保温系统,温度测量系统,钟罩提升系统,工艺气体循环系统,冷却系统,工艺控制系统以及离子发生器系统。这其中的离子发生器系统是普发拓普公司的设计,可以避免打弧现象的发生而且节能效果明显。炉体可以是钟罩式设计,也可以是井式炉或卧式设计。根据设备的大小,加热控制区至少配有三组独立控制升温和降温的加热器,通过这些独立控制的加热器获得较好的均温性。
工艺特点:
通过热壁技术实现良好的均温性
工艺气体消耗少,没有污染气体
灵活的渗氮温度,温度范围 300 ℃ - 600 ℃
白亮层可控
可处理不锈钢
可处理烧结钢
可以在同一炉工艺集成脉冲离子氮化-氧化工艺 
 
离子氮化炉特点:
不产生打弧,工件表面无破坏
加热和控制系统,至少3区独立的加热和冷却区域,
控制区温度均匀分布
PulsPlasma®电源,电压和电流近乎方波,几微妙内获得
设定的全部脉冲电流,主动抑制打弧监测(开关时间< 0.1 µs)
电源可升级至5年质保
可在低温下对工件表面进行等离子清洗
设备布局紧凑,节省空间,所有部件集成在一个基础框架内
模块化设计,提供单室型、交替型和双室型设备
特殊航天保温材料,热容量低,功率损耗低,节省重量
 
离子氮化炉主要技术参数
离子氮化炉技术参数
      


上一个: 下一个:
相关区域的产品
  • 产品详情
  • 联系方式
  • 产品评价
立即询价 面议
企业客服请求为您服务

市场部 (女士)

 
免责声明:
以上所展示的离子氮化炉供应信息由普发拓普真空设备(北京)有限公司自行提供,离子氮化炉信息内容的真实性、准确性和合法性由发布企业普发拓普真空设备(北京)有限公司负责,本网站不承担任何责任。本网站不涉及用户间因交易而产生的法律关系及法律纠纷,纠纷由您自行协商解决。